某半导体材料生产客户因晶圆拆洗加工过程带来含氨废污水，供水量200吨/天。废污池里除氟化物外还含有氟化物和进样器高价属，办理难易大。地区的排放规范特殊要求氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 工业废水基本成分及收入 晶圆洗废污水（大部分来源于）：含化学需氧量200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺生活污水：含微量分析铜、镍等高价属，pH值跌涨大 CMP研磨设备污废水 ：含硅科粒及氯离子 处理工序具体流程 使用"耐腐蚀结晶+膜剥离 +折点氯化"组成技艺： 预除理 ：加药CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 反渗透膜设计 ：清理0.01μm之内小粒物 反融入浓缩提炼 ：将高锰酸盐指数沉淀至1000mg/L这 折点氯化 ：精确度掌握氯添加量，将氧化还原电位还原成为离氮气 亚铁离子置换 ：安全保障血本属不合格 终于郊果 挥发酚平稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属分子量高出测量限 水回收率达75% 淤泥形成量变少40%