该厂为展览著名品牌半导体技术封装形式检验客户，产量流程中产生不少含光刻胶、树酯等涨碳原子有机的物的化工废水，传统性做法外理效用差，急需用钱发展进行改造。 废气特征参数介绍 其主要影响源： 切割机打磨废污水 ：含硅粉、悬屏物（SS>500mg/L） 去胶焦化废水 ：含光刻胶残余物物（COD高达hg8000-12000mg/L） 主轴电镀焦化废水 ：进样器金、银等贵重金属阴阳离子 拆洗废渣：含氟化物（50-200mg/L） 多元化补救鑫霖环保 使用"高級阳极氧化+MBR"组合公式科技： 前处理标段 ： 旋流析出清掉大颗粒状硅粉 药剂学除氟（添加氯化钙构成氟化钙悠长岁月中） 关键正确处理单无 ： Fenton空气氧化（H2O2/Fe2+）拆分大团伙生产物（COD弄掉率60-70%） UASB水解酸化池想法器进步化学降解（COD取除率>80%） MBR膜生物体症状器（PVDF空心食物纤维膜，管径0.1μm） 回收利用模式 ： 反覆盖保护装置产水回收利用于加工线（回收利用率>65%） 运动效益 处理前前后后水体对比图（平均值）： COD从9500mg/L低于45mg/L 氟化物从180mg/L高于8mg/L SS从480mg/L调至5mg/L 设计自功化程度较高，一立方米水净化处理成本投入较原新工艺降低了22%，评为省市级清洗产出先进校活动。