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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆研发厂坐落西北省市,首要产生85英寸半导晶圆,每日废气释股票放量约800吨。会因为产生步骤中施用不少盐酸做晶圆蚀刻,影响废气中氟化物质量浓度独角兽高达200-300mg/L,远超国家释放规范标准(10mg/L有以下)。 化工废水组分及起源 电镀废水首要来自五湖四海八个缓解: 晶圆蚀刻工艺程序 :含高氨水浓度氟化物(HF)、盐酸及极富巨资属 有机化学机械制造打磨(CMP)生产废水 :含纳米级级硅颗粒物、充分络合剂 装置清洁废渣 :含异丙醇、高锰酸盐指数等有机的物 处理流程步骤流程步骤 主要采用"化学反应奠定+沥青混凝土奠定+宽度滤水"两级除理设备: 两级加工 :加药系统氯化钙和氢氧化反应钙,产生氟化钙滤渣,氟化物清除率达85% 二次元办理 :使用PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(聚乙烯酰胺),取除溶液态严重污染 一级正确处理 :使用多媒介进行过滤和活性氧炭吸咐,溢水氟化物酸度固定在8mg/L以下的 重要性环保设备收录:pH系统性自动调高系统性、斜管悠长岁月中池、板框带式压滤机(污泥干化脱水烘干)。 然后成效 产品启用3年污染统计数据资料屏幕上显示: 氟化物峰值氧浓度:7.2mg/L(小于欧洲规范) COD消除率:92% 飞灰水分含量率:≤65% 年回收公司氟化钙加工品设备约150吨,满足环境循环经济利于

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